Numéro de référence
ISO 23812:2009
Norme internationale
ISO 23812:2009
Analyse chimique des surfaces — Spectrométrie de masse des ions secondaires — Méthode pour l'étalonnage de la profondeur pour le silicium à l'aide de matériaux de référence à couches delta multiples
Edition 1
2009-04
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ISO 23812:2009
41867
Publiée (Edition 1, 2009)
Cette publication a été révisée et confirmée pour la dernière fois en 2020. Cette édition reste donc d’actualité.

ISO 23812:2009

ISO 23812:2009
41867
Langue
Format
CHF 129
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Résumé

L'ISO 23812:2009 spécifie un mode opératoire permettant l'étalonnage de l'échelle de profondeur dans une région de faible profondeur, inférieure à 50 nm, lors du profilage en profondeur SIMS à l'aide de matériaux de référence à couches delta multiples.

Elle ne s'applique pas à la région transitoire superficielle où la vitesse de pulvérisation n'est pas en régime permanent.

Elle s'applique au silicium monocristallin, au silicium polycristallin et au silicium amorphe.

Informations générales

  •  : Publiée
     : 2009-04
    : Norme internationale confirmée [90.93]
  •  : 1
     : 19
  • ISO/TC 201/SC 6
    71.040.40 
  • RSS mises à jour

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