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Résumé

This document specifies the test method for measuring the crystalline quality of single-crystal thin film (wafer) using the XRD method with parallel X-ray beam. This document is applicable to all of the single-crystal thin film (wafer) as bulk or epitaxial layer structure.

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Informations générales

  • État actuel
     : Publiée
    Date de publication
     : 2020-08
    Stade
    : Norme internationale publiée [60.60]
  • Edition
     : 1
  • Comité technique :
    ISO/TC 206
    ICS :
    81.060.30 
  • RSS mises à jour

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