Тезис

This document defines the terms involved in atomic layer deposition technology and the corresponding applications. The basis of atomic layer deposition and the physical and chemical properties of thin films, as well as their detection methods are included. The terms in corresponding applications of thin films via atomic layer deposition are defined, such as microelectronics, photovoltaics, display, energy and catalysis.


Общая информация 

  • Текущий статус
     : В стадии разработки
    Дата публикации
     : 2023-10
  • Версия
     : 1
  • Технический комитет
     : ISO/TC 107 Metallic and other inorganic coatings
  • ICS
     :
    01.040.25 Manufacturing engineering (Vocabularies)
    25.220.01 Surface treatment and coating in general

Жизненный цикл

Цели в области устойчивого развития

Данный стандарт разработан для достижения следующих Цель устойчивого развития

9
Индустриализация, инновации и инфраструктура

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

  2. Интернет-магазин
  3. Каталог стандартов
  4. МКС
  5. 01
  6. 01.040
  7. 01.040.25
  8. ISO 8181