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Resumen

This document specifies the test method for measuring the crystalline quality of single-crystal thin film (wafer) using the XRD method with parallel X-ray beam. This document is applicable to all of the single-crystal thin film (wafer) as bulk or epitaxial layer structure.

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Informaciones generales

  • Estado
     : Publicado
    Fecha de publicación
     : 2020-08
    Etapa
    : Norma Internacional publicada [60.60]
  • Edición
     : 1
    Número de páginas
     : 29
  • Comité Técnico :
    ISO/TC 206
    ICS :
    81.060.30 
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9
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